Брзиот развој во областа на информациите и оптоелектрониката го промовираше континуираното ажурирање на технологијата за хемиско механичко полирање (CMP).Покрај опремата и материјалите, стекнувањето на површини со ултра висока прецизност е повеќе зависно од дизајнот и индустриското производство на високоефикасни абразивни честички, како и од подготовката на соодветната кашеста маса за полирање.И со континуираното подобрување на барањата за точност и ефикасност на обработката на површината, барањата за високоефикасни материјали за полирање исто така стануваат се повисоки и повисоки.Цериум диоксидот е широко користен во површинската прецизна обработка на микроелектронски уреди и прецизни оптички компоненти.
Прашокот за полирање со цериум оксид (VK-Ce01) ги има предностите на силна способност за сечење, висока ефикасност на полирање, висока точност на полирање, добар квалитет на полирање, чиста работна средина, ниско загадување, долг работен век итн., и е широко користен во Исклучително важна позиција зазема полето за оптичко прецизно полирање и CMP, итн.
Основни својства на цериум оксид:
Церија, позната и како цериум оксид, е оксид на цериум.Во тоа време, валентноста на цериумот е +4, а хемиската формула е CeO2.Чистиот производ е бел тежок прав или кубен кристал, а нечистиот производ е светло жолт, па дури и розов до црвеникаво-кафеав прав (бидејќи содржи траги на лантан, прасеодимиум итн.).На собна температура и притисок, церијата е стабилен оксид на цериум.Цериумот може да формира и +3 валентност Ce2O3, што е нестабилно и ќе формира стабилен CeO2 со O2.Цериум оксидот е малку растворлив во вода, алкали и киселина.Густината е 7,132 g/cm3, точката на топење е 2600℃, а точката на вриење е 3500℃.
Механизам за полирање на цериум оксид
Цврстината на CeO2 честичките не е висока.Како што е прикажано во табелата подолу, тврдоста на цериум оксидот е многу помала од онаа на дијамантот и алуминиум оксидот, а исто така пониска од онаа на циркониум оксидот и силициум оксидот, што е еквивалентно на железен оксид.Затоа, технички не е изводливо да се деполираат материјалите базирани на силициум оксид, како што се силикатно стакло, кварцно стакло итн., со церија со мала цврстина само од механичка гледна точка.Сепак, цериум оксидот во моментов е најпосакуваниот прашок за полирање за полирање материјали базирани на силициум оксид или дури и материјали од силициум нитрид.Може да се види дека полирањето со цериум оксид има и други ефекти освен механички ефекти.Тврдоста на дијамантот, кој е најчесто користен материјал за мелење и полирање, обично има празни места на кислород во решетката CeO2, што ги менува неговите физички и хемиски својства и има одредено влијание врз својствата на полирање.Најчесто користените прашоци за полирање со цериум оксид содржат одредена количина на други ретки земјени оксиди.Прасеодимиум оксидот (Pr6O11) исто така има структура на кубна решетка насочена кон лицето, која е погодна за полирање, додека другите оксиди од ретки земји од лантанид немаат способност за полирање.Без промена на кристалната структура на CeO2, тој може да формира цврст раствор со него во одреден опсег.За прашок за полирање со нано-цериум оксид со висока чистота (VK-Ce01), колку е поголема чистотата на цериум оксидот (VK-Ce01), толку е поголема способноста за полирање и подолг работен век, особено за тврдо стакло и кварцни оптички леќи за долго време.При циклично полирање, препорачливо е да се користи прашок за полирање со цериум оксид со висока чистота (VK-Ce01).
Примена на прашок за полирање со цериум оксид:
Прашок за полирање со цериум оксид (VK-Ce01), главно се користи за полирање стаклени производи, главно се користи во следните полиња:
1. Очила, полирање на стаклени леќи;
2. Оптичка леќа, оптичко стакло, леќа, итн.;
3. Стакло на екранот на мобилниот телефон, површина на часовникот (врата на часовникот) итн.;
4. LCD монитор сите видови LCD екран;
5. Штрасови, врели дијаманти (картички, дијаманти на фармерки), топки за осветлување (луксузни лустери во големата сала);
6. Занаети со кристали;
7. Делумно полирање на жад
Сегашните деривати за полирање со цериум оксид:
Површината на цериум оксид е допирана со алуминиум за значително да се подобри неговото полирање на оптичкото стакло.
Одделот за истражување и развој на технологијата на UrbanMines Tech.Limited, предложи дека мешањето и површинската модификација на честичките за полирање се главните методи и пристапи за подобрување на ефикасноста и точноста на CMP полирањето.Бидејќи својствата на честичките може да се подесат со мешање на повеќекомпонентни елементи, а стабилноста на дисперзија и ефикасноста на полирање на кашеста маса за полирање може да се подобрат со модификација на површината.Изведбата на подготовка и полирање на прашокот CeO2 допиран со TiO2 може да ја подобри ефикасноста на полирање за повеќе од 50%, а во исто време, дефектите на површината исто така се намалуваат за 80%.Синергетско полирање ефект на композитните оксиди CeO2 ZrO2 и SiO2 2CeO2;затоа, технологијата на подготовка на допирани микро-нано композитни оксиди на церија е од големо значење за развојот на нови материјали за полирање и дискусијата за механизмот за полирање.Покрај количината на допинг, состојбата и дистрибуцијата на допантот во синтетизираните честички, исто така, во голема мера влијае на нивните површински својства и перформансите на полирање.
Меѓу нив, попривлечна е синтезата на полирање честички со структура на обложување.Затоа, изборот на синтетички методи и услови е исто така многу важен, особено оние методи кои се едноставни и исплатливи.Користејќи хидриран цериум карбонат како главна суровина, честичките за полирање со цериум оксид допирани со алуминиум беа синтетизирани со влажна цврстофазна механичкохемиска метода.Под дејство на механичка сила, големи честички на хидриран цериум карбонат може да се расцепат на фини честички, додека алуминиум нитрат реагира со амонијак вода за да формира аморфни колоидни честички.Колоидните честички лесно се прикачуваат на честичките цериум карбонат, а по сушењето и калцинирањето може да се постигне алуминиумски допинг на површината на цериум оксидот.Овој метод се користеше за синтетизирање на честички од цериум оксид со различни количини на алуминиумски допинг, а се карактеризираше и нивното полирање.Откако ќе се додаде соодветно количество алуминиум на површината на честичките од цериум оксид, негативната вредност на површинскиот потенцијал би се зголемила, што пак го направило јазот помеѓу абразивните честички.Постои посилна електростатска одбивност, што промовира подобрување на стабилноста на абразивната суспензија.Во исто време, ќе се зајакне и меѓусебната адсорпција помеѓу абразивните честички и позитивно наелектризираниот мек слој преку Кулоновата привлечност, што е корисно за меѓусебниот контакт помеѓу абразивот и мекиот слој на површината на полираното стакло и промовира подобрување на стапката на полирање.